业界 传三星已推迟其美国泰勒工厂EUV光刻机的交付 10月18日消息,据路透社报道,三星已经推迟了其位于美国德克萨斯州泰勒市在建的晶圆厂的ASML光刻机的交付,虽然不清楚具体的原因,但猜测可能与其尖端逻辑制程良率偏低,难以获得客户订单有关。2024年10月18日
业界 ASML业绩暴雷,中国营收占比将降至20%!股价暴跌超16%! 当地时间10月15日,荷兰光刻机大厂ASML公布了2024年三季度财报。虽然当季的销售额和毛利率符合预期,但新增订单环比大跌53%,不及市场预期的一半,同时还下调明年销售目标。此外,ASML还预计明年来自中国大陆的营收占比也将降至20%。2024年10月16日
业界 ASML CEO:即使西方芯片产能增加,亚洲仍是半导体产业中心! 10月11日消息,在出席参加台积电德国德累斯顿晶圆厂奠基仪式数周之后,荷兰光刻机大厂ASML总裁兼CEO Christophe Fouquet近日在接受《日经亚洲》专访时再度指出,西方国家芯片生产的增加,不太可能打破现有半导体产业的势力平衡,将该行业的重心从亚洲转移出去。2024年10月11日
业界 传三星将抢先台积电拿到High NA EUV光刻机 8月16日消息,据韩国首尔经济日报报道,三星将于2024年第四季度到2025年第一季在韩国华城园区开始安装首套High-NA EUV,预计2025年中启用,首先会用于开发2nm以下逻辑制程,以及先进的DRAM芯片制程。三星也计划与Lasertec、JSR、Tokyo Electron和Synopsys合作,打造High-NA EUV生态系统。2024年8月16日
业界, 深度 日本提出EUV光刻新方案:光源功率可降低10倍,成本将大幅降低! 8月7日消息,近日日本冲绳科学技术大学(OIST)的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外(EUV)光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置,新的光学投影系统仅使用了两面反射镜,在确保系统维持较高的光学性能的同时,能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆,相比传统系统中仅1%的功率来说,提了高到了原来的10倍,可说是一大突破。2024年8月12日
业界 imec展示基于High NA EUV曝光的逻辑与DRAM结构 近日,比利时微电子研究中心(imec)在荷兰 Eindhoven 与ASML合作建立的高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)光刻实验室中,利用径 0.55NA EUV光刻机 (TWINSCAN EXE:5000) ,发布了曝光后的图形化元件结构。2024年8月9日
业界 全球第二台High NA EUV光刻机即将进入英特尔奥勒冈州晶圆厂 8月6日消息,在近日的英特尔财报电话会议上,英特尔CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)透露,全球第二台High NA (高数值孔径)EUV光刻机即将进入英特尔位于美国奥勒冈州的晶圆厂。2024年8月6日
手机数码 何时采用High NA EUV?台积电张晓强这样回应 近日,YouTube博主TechTechPotato发布与台积电资深副总暨副共同营运长张晓强29分钟的访谈。张晓强在访谈中回应了关于台积电何时采用高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)光刻设备的问题。2024年7月30日
业界 ASML二季度营收同比下滑7.6%!来自中国大陆的净系统销售额占比仍高达49%! 2024年7月17日,光刻机大厂ASML正式发布其2024年第二季度财报,该季度ASML实现净销售额62.4亿欧元,相比上年同期的67.5亿欧元下滑约7.6%,相比一季度的52.9亿欧元增长约18%,高于官方指引的57亿至62亿欧元区间的中值;毛利率为51.5%,高于去年同期的50.6%;净利润为15.8亿欧元,相比去年同期的19.6亿欧元下滑约19.4%,相比一季度的12.2亿欧元,增长29.5%;每股基本收益4.01欧元,上年同期3.11欧元。2024年7月17日
业界 三井化学将量产EUV光罩保护膜,或将采用碳纳米管材料 6月18日消息,日本化工大厂三井化学日前宣布,将开始量产EUV光罩保护膜(pellicles),可支持ASML将推出的下一代拥有超过600W光源功率的EUV光刻机。为此,三井化学计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,计划年产能为5000张,生产线预计于2025年12月完工。2024年6月18日
业界, 深度 可支持2埃米量产!ASML最新路线图曝光:2030年推出Hyper NA EUV! 近年来,随着半导体尖端制程工艺越来越逼近物理极限,荷兰光刻机大厂ASML生产的EUV光刻机已经成为了继续推动晶体管微缩的关键设备,而当制程工艺进入2nm以下的埃米时代,可能就需要用到售价高达3.5亿欧元的High NA EUV光刻机。在2023年底,ASML已经开始向英特尔交付了首套High NA EUV光刻机,英特尔也于上个月完成了组装。虽然,High NA EUV光刻机刚开始出货,但是ASML已经在加紧研发新一代的Hyper-NA EUV光刻机,为其寻找合适的解决方案。2024年6月15日
业界 ASML:EUV技术领域不会面临来自中国公司的竞争! 6月6日消息,据路透社报道,ASML首席财务官Roger Dassen近日曾在 Jefferies证券主持的投资者电话会议上表示,ASML与台积电的商业谈判即将结束,预计在第二季度或第三季度开始获得“大量” 2nm芯片制造相关设备订单。同时,Jefferies报告称台积电已经订购了High NA EUV光刻机。2024年6月6日