台积电/三星/GF纷纷冲刺7nm，但EUV光刻工艺仍是配角！
在芯片代工领域，如果说台积电、英特尔、三星属于第一梯队，那么格罗方德（GlobalFoundries）可能只能算是在第二梯队。而为了能够加速追赶第一梯队的厂商，2016年9月，格罗方德就宣布将跳过10nm制程，直接往7nm发展。
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GlobalFoundries：7nm进展顺利，极紫外光刻良率已达65％！
GlobalFoundries首席技术官Gary Patton近日在上海举行的一次技术会议上披露，GF EUV极紫外光刻技术的良品率已经提高到65％，公司将按计划推进EUV的商用和普及。
ASML新一代EUV光刻机刚出货，尼康就要断了英特尔/三星/台积电的命根？
现在三星、台积电的10nm工艺都已经开始量产，英特尔预计在今年内量产其10nm工艺。与此同时，7nm也早已被各家提上了日程。不过随着工艺的不断提升，难度也是越来越大，不仅仅是设计上的问题，还包括生产设备上的问题。目前要实现7nm工艺就需要用到EUV（极紫外）光刻机，而目前在这个领域，荷兰的ASML无疑是老大。
MIT开发新技术：让芯片自己组装自己，轻松实现7纳米
北京时间3月28日消息，美国麻省理工学院（MIT）和芝加哥大学的研究人员开发了一种新技术，可以让芯片按照预定的设计和结构自行组装。
