• 台积电7nm EUV芯片首次流片成功，明年试产5nm

    台积电7nm EUV芯片首次流片成功，明年试产5nm

    近日，全球第一大晶圆代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。...
    • 费恩格尔=指纹标准件

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