• 三星计划于2025年量产2nm芯片

    三星计划于2025年量产2nm芯片

    6月20日消息，据 BusinessKorea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造2纳米GAA（Gate-all-around）工艺来追赶台积电。...
  • 台积电2nm细节曝光：功耗降低30%！​成熟制程产能2025年将提升50%

    台积电2nm细节曝光：功耗降低30%！​成熟制程产能2025年将提升50%

    当地时间6月16日，晶圆代工巨头台积电在北美召开了2022年台积电技术研讨会。不仅公布了台积电下一代的2nm制程技术的部分细节信息，同时还透露，通过在中国台湾、中国大陆和日本建设新...
  • 台积电正式公布2nm： 采用GAAFET晶体管架构，功耗降低30%

    台积电正式公布2nm： 采用GAAFET晶体管架构，功耗降低30%

    6月17日早间消息，台积电在今日举办的2022技术论坛上，首度推出下一代先进制程N2，也就是2nm。 技术指标方面，台积电披露，N2相较于N3，在相同功耗下，速度快10~15%；...
  • 日本计划携手美国在2025年生产2nm芯片

    日本计划携手美国在2025年生产2nm芯片

    6月15日消息，据日经新闻报道，日本将与美国合作，最早在 2025 财年启动本土2nm半导体制造基地，加入下一代芯片技术商业化的竞赛。据悉，日本和美国将根据双边芯片技术伙伴关系提供...
  • 台积电启动2nm晶圆厂建设，预计2025年量产

    台积电启动2nm晶圆厂建设，预计2025年量产

    4月21日消息，据台湾媒体报道，晶圆代工龙头台积电位于台湾竹科宝山二期的2nm晶圆厂Fab 20建厂计划已正式启动。...
  • ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用

    ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用

    ​在上月的ITF大会上，imec（比利时微电子研究中心）公布的蓝图显示，2025年后晶体管进入埃米尺度（Å，angstrom，1埃 = 0.1纳米），其中2025对应A14（14Å...
  • IBM中国揭秘首款2nm芯片：最小元件比DNA单链还要小

    IBM中国揭秘首款2nm芯片：最小元件比DNA单链还要小

    11月25日消息，IBM中国近日发布一段题为《YYDS！IBM发布全球首个2nm芯片》的视频，对于IBM的2nm芯片进行了介绍。...
  • 占据90%光刻机市场！狂奔中的ASML，依然看不到任何对手

    占据90%光刻机市场！狂奔中的ASML，依然看不到任何对手

    作为全球最大的半导体光刻系统供应商，ASML同时也是全球唯一的极紫外光刻 (EUV) 机供应商。EUV光刻系统也被认为是目前最先进的芯片制造工具之一，可以让芯片制造商在7nm及以下...
  • 反超台积电，三星宣布3nm GAA工艺2022年量产！2nm将于2025年量产

    反超台积电，三星宣布3nm GAA工艺2022年量产！2nm将于2025年量产

    10月7日消息，在今日的举行的“Samsung Foundry Forum 2021”论坛活动上，三星推出了全新的17nm工艺，并宣布将于2022年上半年量产3nm制程，更先进的2...
  • 大突破！IBM全球首发2nm制程芯片及制造技术

    大突破！IBM全球首发2nm制程芯片及制造技术

    5月7日消息，虽然半导体制程工艺的持续推进变得越来越困难，但是根据台积电此前透露的信息显示，其已在2nm工艺上取得了重大突破，乐观的情况下，2nm工艺有望在2023年下半年进行风险...
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