全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？
这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产氟化氩光刻机的消息，一时间，各种关于国产光刻机大突破言论满天飞，甚至还有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。
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总投资50亿元，国产光刻机工厂落户绍兴
近日，项目总投资约50亿元的上海图双精密装备项目落户绍兴市越城区，成为绍“芯”版图上的又一块新拼图。项目计划分两期实施。一期计划投资约5亿元，一期占地面积35亩，用于转移及扩大公司目前在上海的产能；二期计划投资约45亿元。两期将实现年产50-100台半导体设备的目标。项目正在建设中，预计2025年投产。
密码保护：国产光刻机真相到底如何？
无法提供摘要。这是一篇受保护的文章。
密码保护：国产“28nm光刻机”最新进展：浸液系统项目已成功交付0号样机、1号机，进入产品制造阶段
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解决“卡脖子”问题，国产光刻机项目用了他们的光源
从正面看去，一个比例被放大数十倍的立体玉龙跃然眼前，可当你伸手去触摸时，却只碰到了空气（见下图），2月20日，在位于新乡市红旗区新东产业集聚区的百合光电有限公司（以下简称百合光电），记者感受到了裸眼3D悬浮成像技术这一“黑科技”。
不用EUV也能实现5nm？中科院研发新型激光光刻技术
近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（Nano Letters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》（5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究论文，论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。
