佳能下修2025年业绩预期：光刻机销量下调至289台！
4月24日日本股市盘后，相机及光刻机大厂佳能（Canon）在公布了2025年一季度（2025年1-3月）财报的同时，下修了2025年度的整体业绩预期。
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三大光刻机厂商相继下调财测目标
继日前半导体光刻设备厂商ASML、佳能相继下修年度财测目标后，另一家光刻机厂商尼康近日也宣布下修年度财测目标。
佳能下调2024年业绩目标：半导体光刻机销量预计239台，同比增长28%！
10月24日，相机、光刻机大厂、打印设备大厂佳能（Canon）公布了2024年第三季度（7-9月）财报，营收创下了历史新纪录。不过，由于日元汇率较此前预期上升，小幅下调了2024年度营收及利润目标，但年营收仍有望创下历史新记录。
佳能：已向德克萨斯电子研究所出货首台纳米压印设备！
2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C 。
苏州佳能裁员赔偿N+12或2N+12？官方回应：消息不实！
8月1日消息，近日有网友在某社交平台爆料称，苏州佳能开始了新一轮裁员，规模可能涉及上千人，而裁员赔偿标准则是“刷新了外企裁员的天花板”—— 无固定合同期限的员工将可获得“N+12” 或 “2N+12”的赔偿。随后，该消息引发了众多网友的转发和热议。
佳能上调2024年业绩指引：半导体光刻设备销量将达244台，同比大增30%
7月25日日本股市盘后，相机、光刻机大厂、打印设备大厂佳能（Canon）公布了2024年第二季（4-6月）财报，整体营收创同期历史新高，净利润也同比大涨。同时，佳能还上调了2024年全年业绩指引，预估值远优于市场预期，推动佳能26日股价大涨。
为降低DRAM制造成本，传美光将率先采用佳能纳米压印设备
据外媒报道称，美光近日在一场演讲当中介绍了如何将纳米压印技术用于DRAM生产的细节，这似乎也预示着美光将会率先采用佳能的NIL设备用于DRAM芯片的生产，以便进一步降低DRAM的制造成本。
佳能纳米压印设备最快今年出货！
2023年10月，日本光刻机大厂佳能（Canon）正式发布了基于纳米压印技术（NIL）的芯片制造设备FPA-1200NZ2C，预计为小型半导体制造商在生产先进制程芯片方面开辟出一条全新的路径。近日，佳能负责新型纳米压印设备开发的高管武石洋明对媒体表示，FPA-1200NZ2C将会在2024年至2025年间出货。
佳能：通过改进光罩，纳米压印设备可以生产2nm芯片！
12月26日消息，日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，使得生产先进芯片的技术不再只有少数大型半导体制造商所独享。
尼康宣布推出全新ArF浸没式光刻机NSR-S636E，生产效率提升15%
12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。
绕过EUV技术，佳能开始销售5nm芯片生产设备
10月14日消息，光刻机大厂佳能（Canon）公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。
