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泛林集团:受美国出口管制新规影响,2023年全球晶圆厂设备支出将同比下滑超20%

受美国新规影响,泛林集团2023年营收或将减少20-25亿美元

10月20日消息,半导体设备大厂泛林集团(Lam Research)于美国股市周三(10月19日)盘后公布了2023会计年度第一季(截至2022年9月25日止)的财报。虽然业绩超出预期,但是受美国对华出口管制新规的影响,泛林集团认为,2023年全球晶圆厂设备(WFE)投资额将同比下滑20%。
Fig. 1. Measured I-V characteristics of nMOS transistors fabricated in 160nm (left) and 40nm (right) CMOS. Room temperature operation is shown in the dotted curves, liquid helium operation is shown in the solid curves, and a Spice-compatible model fitted to experimental data is shown in the dashed lines. (Taken from [6])

量子计算机和CMOS半导体的发展回顾与未来预测

随着量子计算的出现,对外围容错逻辑控制电路的需求达到了新的高度。在传统计算中,信息的单位是“1”或“0”。在量子计算机中,信息单位是一个量子比特,可以描绘为“0”、“1”或两个值的叠加(称为“叠加态”)。

泛林集团、Entegris和Gelest携手推进EUV干膜光刻胶技术生态系统

北京时间2022年7月15日——泛林集团 (NASDAQ: LRCX)、Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG) 和三菱化学集团旗下公司 Gelest, Inc, 于近日宣布了一项战略合作,将为全球半导体制造商提供可靠的前体化学品,用于下一代半导体生产所需的、泛林突破性的极紫外 (EUV)干膜光刻胶创新技术。三方将合作对未来几代逻辑和 DRAM 器件生产所使用的 EUV 干膜光刻胶技术进行研发,这将有助于从机器学习和人工智能到移动设备所有这些技术的实现。

2021年全球十五大半导体设备厂商:美日占据11家,中国仅1家上榜!市场需求旺盛,但供应受限

近日,芯智讯根据各半导体设备公司财报及相关公开数据,整理了2021年自然年度(2021年1-12月)全球前15大半导体设备供应商的销售数据及排名显示,美国应用材料以241.72亿美元的收入排名第一,光刻机大厂荷兰ASML以217.75亿美元排名第二,之后的前五厂商分别为日本东京电子(172.78亿美元)、美国泛林集团(165.24亿美元)、美国科磊(81.65亿美元)。
最后期限已至,台积电等数十家半导体企业已向美国提交资料-芯智讯

传台积电为尽快拿到设备“加价下单”!

4月19日消息,由于各大晶圆厂商新建晶圆厂所需的关键设备交期持续拉长,有市场传闻指出,台积电已多次派高层直接与设备供应商谈判,甚至以“加价购买”模式下单,以提早拿到设备。
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泛林集团推出开创性的选择性刻蚀设备组合,以加速芯片制造商的3D路线图

2022年2月10日,泛林集团 (NASDAQ: LRCX) 宣布推出一系列新的选择性刻蚀产品,这些产品应用突破性的晶圆制造技术和创新的化学成分,以支持芯片制造商开发环栅 (GAA) 晶体管结构。 泛林集团的选择性刻蚀产品组合包含三款新产品——Argos®、Prevos™ 和 Selis®,为先进逻辑和存储器半导体解决方案的设计和制造提供了强大优势。