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极紫外光刻
台积电5nm测试芯片良率已达80%:明年上半年大规模量产
在近日的IEEE IEDM大会上,台积电官方披露了5nm工艺的最新进展,给出了大量确凿数据,看起来十分的欢欣鼓舞。...
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1年前 (2019-12-12)
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7nm
EUV光刻
GlobalFoundries
极紫外光刻
GlobalFoundries:7nm进展顺利,极紫外光刻良率已达65%!
GlobalFoundries首席技术官Gary Patton近日在上海举行的一次技术会议上披露,GF EUV极紫外光刻技术的良品率已经提高到65%,公司将按计划推进EUV的商用和...
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业界
3年前 (2017-10-26)
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