泛林集团在ALD和EUV光刻胶处理设备领域下重注
美国半导体设备大厂泛林集团（Lam Research）目前正重点关注两项关键技术——原子层沉积 (ALD) 和干式 EUV（极紫外）光刻胶处理相关设备。随着晶体管微缩越来越小、越来越复杂，这两项技术变得越来越重要。
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涉嫌垄断，杜邦中国被立案调查！
4月4日，中国市场监管总局宣布，因杜邦中国集团有限公司涉嫌违反《中华人民共和国反垄断法》，市场监管总局依法对杜邦中国集团有限公司开展立案调查。
日本研发基于木基材料的光刻胶，可满足2nm制程需求
1月24日消息，据日本媒体报导日本两大纸业巨头之一的王子控股（Oji Holdings）正在向成为一家木制材料综合企业转型，其最新目标是开发一种采用木基生物质材料的正性光阻剂（光刻胶），目标是到2028年达成商业化。
鼎龙股份ArF及KrF光刻胶分别获两家国产晶圆厂订单
12月9日晚间，国产半导体材料厂商鼎龙股份发布公告称，公司旗下的某款浸没式 ArF 晶圆光刻胶及某款 KrF 晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证，并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单，合计采购金额超百万元人民币。
太紫薇国产KrF光刻胶通过半导体工艺量产验证
10月15日，“中国光谷”通过微信公众号发布消息称，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。
信越化学：半导体硅片需求触底，12英寸产品出货逐步增加
财报显示，信越化学二季度虽然PVC销售萎缩，但半导体硅片等半导体材料销售增长，合并营收较去年同期下滑0.2%至5,979亿日元；合并营业利润同比增长0.1%至1,910亿日元，这也是近6个季度来首度呈现增长；合并净利润同比下滑6.3%至1,440亿日元，连续第6个季度陷入萎缩。
彤程新材ArF光刻胶已实现批量出货
据国产光刻胶大厂彤程新材官网消息，近期彤程新材的ArF光刻胶已实现批量出货。这意味着，彤程新材在光刻胶产品线上又取得了新突破。
中国科研团队完成新型光刻胶技术验证：为EUV光刻胶开发做技术储备
据“湖北九峰山实验室”官方微信公众号消息，近日，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
投资8亿元，鼎龙股份投建年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目
12月25日A股盘后，国产半导体材料厂商鼎龙股份发布公告称，为助力推动半导体 KrF/ArF 光刻胶的国产替代进程，同时进一步丰富公司的业
务板块，加速实现公司进口替代“创新材料平台型企业”的战略发展目标，公司已审议通过了对全资子公司鼎龙（潜江）新材料有限公司（以下简称“潜江新材料”）实施增资并以增资扩股方式引入两家员工持股平台及一家新进投资方共同投资建设年产 300 吨KrF/ArF 光刻胶产业化项目。
鼎龙股份多项光刻胶相关重大项目获立项，将获得约1.6亿元资金支持
11月9日晚间，国产半导体材料厂商鼎龙股份发布公告称，公司及下属子公司于今年相继收到多项光刻胶相关国家及省级重要项目立项通知，公司布局的三大领域光刻胶相关产品：集成电路晶圆光刻胶及核心原料、半导体先进封装用光刻胶、半导体柔性显示用光刻胶相关项目将获得项目经费支持合计不超过1.64亿元。
光刻胶材料研究获突破，可将光刻效率提速1000倍！
10月6日消息，近日Nature Nanotechnology发表了一篇题为《Light-Sensing Resistant Graphene Oxidewith Ultrafast and High-Resolution Patterning》的研究论文，该论文的作者是来自清华大学核能与新能源技术研究院何向明研究员和徐宏副教授和浙江大学光电科学与工程学院匡翠方教授。这项研究主要涉及到一种新型的光刻胶材料，可以大大提高光刻的效率，将传统方法的速度提升了1000倍以上。
