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抢先台积电,三星3nm GAA工艺成功流片

目前全球已量产的最先进半导体工艺是5nm,台积电此前表示,2022年下半年将量产3nm工艺,不过在3nm节点台积电依然选择FinFET晶体管技术,而三星则选择了GAA(Gate-all-around)技术。近日,三星对宣布其基于GAA技术的3nm制程成已成功流片(Tape Out)。

首发GAA晶体管技术,三星3nm工艺成功流片

目前全球已量产的最先进工艺是5nm,台积电明年就要量产3nm工艺,不过3nm节点他们依然选择FinFET晶体管技术,三星则选择了GAA技术,日前三星也成功流片了3nm GAA芯片,迈出了关键一步。