浸没式光刻技术如何拯救摩尔定律?

TWINSCAN NXT:2000i机器的特写图片。
2000年代初,芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩(ArF)光源光刻技术过渡到157纳米氟(F 2 )光源光刻技术。就像艺术家希望用细线笔代替记号笔来绘制更精确、更详细的图片一样,这种向更小波长的重大转变是业界希望继续缩小晶体管并在芯片上实现更多计算能力和存储功能的希望。然而,意想不到的事态发展证明了将工程推向极限的风险,但物理定律并不同意。

美国商务部将27个中国实体从“未经验证清单”中剔除!(附名单)

当地时间8月21日,美国商务部下属工业和安全局(BIS)发布声明,宣布将33个实体从“未经验证清单”(Unverified List)剔除,其中27个实体位于中国,其他实体位于印度尼西亚、巴基斯坦、新加坡、土耳其和阿拉伯联合酋长国。这一决定已于21日对外公开展示,并将于8月22日在《联邦公报》上公布后生效。

日本INCJ计划出售部分瑞萨电子股权

瑞萨电子
8月21日消息,日本半导体大厂瑞萨电子18日宣布,已接获INCJ(日本产业革新机构)的通知,INCJ将出售所持有的部分瑞萨股票,出售后INCJ将从瑞萨电子的“主要股东”名单中剔除。