摘要:11月18日消息,继此前彭博社爆出英特尔成都厂扩产计划因美国政府反对而取消之后,韩国存储大厂SK海力士位于中国无锡的存储厂升级计划也遭到了美国政府的阻挠。

美国政府出手阻挠,SK海力士无锡厂引入EUV光刻机受阻!-芯智讯
11月18日消息,继此前彭博社爆出英特尔成都厂扩产计划因美国政府反对而取消之后,韩国存储大厂SK海力士位于中国无锡的存储厂升级计划也遭到了美国政府的阻挠。
SK海力士无锡厂导入EUV光刻机受阻
据路透社今天报道,知情人士称,SK海力士正计划对其位于中国无锡的存储晶圆厂进行升级,以提升DRAM芯片生产效率。然而,美国政府阻止先进的极紫外光 (EUV) 光刻机对中国大陆的出口,恐将使得SK海力士无锡厂的升级计划落空,SK 海力士成为美中地缘政治斗争下的又一个受害者。
美国政府出手阻挠,SK海力士无锡厂引入EUV光刻机受阻!-芯智讯

据三位知情人士透露,SK海力士无锡厂的升级计划,希望提升DRAM芯片的制造工艺,以提升生产效率,需要用到荷兰ASML公司制造的EUV光刻机。而一直以来,美国都在阻止EUV光刻机对中国大陆的出口,理由是向中国大陆运送此类先进设备将可能被用于加强其军事力量。

路透社报道称,一位白宫高级官员拒绝就美国政府是否允许SK海力士将EUV光刻机带到中国大陆的问题发表具体评论。但这位官员告诉路透社,拜登政府仍然专注于阻止中国利用美国和盟国的技术开发最先进的半导体制造技术,以帮助中国实现军事现代化。

DRAM厂商纷纷导入EUV工艺,SK海力士无锡厂或将落后

作为全球第二大DRAM厂商,SK海力士占据了全球约29%的DRAM市场。而SK海力士无锡厂则占据了其DRAM总产能的一半,占全球DRAM总产能的近15%。

这也意味着,如果SK海力士无锡厂无法获得先进的EUV光刻机,将使得该工厂的制程工艺的升级遭遇障碍,生产效率难以继续提升,这无疑将对全球DRAM市场产生负面影响。根据IDC的数据显示,仅2021年,全球DRAM芯片的需求就增长了19%。

一位了解SK海力士中国业务的消息人士表示,随着新的依赖于EUV光刻机的先进制程工艺在未来两到三年内在DRAM芯片制造当中占比的提升,SK海力士需要EUV光刻机来帮助其提升无锡厂生产效率和控制成本。

如果未来几年这种情况得不到解决,SK海力士可能在与排名第一的DRAM芯片制造商三星电子,以及与排名第三的美光的竞争当中处于劣势。目前三星和美光都在积极的在其DRAM芯片的生产当中导入EUV光刻机。SK海力士韩国的DRAM工厂也在积极导入EUV光刻机。

早在2020年4月,三星就成功生产了100万个采用了EUV技术的10纳米级1x)制程DRAM。之所以将EUV技术应用于1x制程的DRAM,是出于测试的目的。今年10月,三星宣布已开始量产采用EUV工艺的DDR5内存,应用的是5层EUV方案,具有更高的密度,更低的成本、更低的功耗以及性能表现。

根据此前的资料显示,三星在2020年下半年完成了平泽工厂的EUV专用产线(被称为“P-EUV”),1a DRAM产品正是在平泽的P-EUV产线生产。

虽然美光并没有计划在1a DRAM产品上使用EUV技术,但是已明确会在会1-δ (10纳米级第7代)产品开始导入EUV制程。

美国政府出手阻挠,SK海力士无锡厂引入EUV光刻机受阻!-芯智讯

此前,SK海力士在韩国的利川新厂M16也已经引进了2台EUV光刻机,并且计划从2021年下半年开始生产第四代10纳米级(1a)DRAM存储器。

SK海力士内部对于无锡厂可能无法获得EUV光刻机的问题,一直都有着担忧,只不过没有公开对外透露过。

据两位知情人士透露,此事在SK海力士内部已经引起了足够的重视,以至于SK海力士首席执行官李锡熙在今7月访问美国华盛顿特区期间就向美国官员提出了这个问题。

SK海力士拒绝就此事发表评论,只表示,它将根据各种市场环境灵活运作,并正在尽最大努力应对市场和客户的需求。

为遏制大陆半导体发展,美国卡住EUV光刻机

目前中国大陆在芯片设计领域已经处于全球领先地位,华为海思可以说是芯片设计领域的领军企业,近年来数代麒麟处理器都足以与同时期的高通骁龙旗舰处理器相抗衡。不过,在芯片制造领域,特别是在半导体设备方面,中国大陆仍处于落后的位置。

虽然近年来国家大力支持半导体制造及设备产业的发展,但是美国为了进一步压制大陆半导体产业的发展,通过出口管制以及行政令等手段,持续限制中芯国际、华为等半导体企业获取可以被用于先进制程芯片制造的半导体设备或制造服务。

特别对于7nm以下更先进的半导体制程所必须的关键设备——荷兰ASML的EUV光刻机,美国更是不遗余力的进行封堵。

早在2018年5月,中芯国际就证实已向荷兰ASML订购了一台最新型的EUV光刻机,价值高达1.5亿美元,原计划在2019年初交付。当时荷兰政府也已向ASML颁发了出口许可证(该出口许可证于2019年6月30日到期),允许其向中国客户出售其最先进的设备。

虽然根据美国出口管制的规定,如果其他国家出口到中国的高科技产品中来源于美国的技术占比达到25%以上,美国政府有权阻止这项交易。但是,美国商务部对ASML的EUV光刻机进行了审计,但发现它没有达到25%的门槛。

由于无法利用现有的法规直接阻止EUV光刻机对中国大陆的出口,因此,特朗普政府迫使荷兰考虑安全问题。并且在后续的几个月里,美国官员为了阻止这笔交易,与荷兰官员举行了至少四轮会谈。

2019年7月,美国的努力达到了顶峰,时任美国国家副安全顾问的查尔斯·库珀曼(Charles Kupperman)在荷兰总理马克·吕特(Mark Rutte)访问美国期间向荷兰官员提出了这个问题。据报道,美国向荷兰总理吕特提供了一份情报报告,内容涉及中国收购ASML技术的潜在影响。

随后,美国施加的压力似乎起作用了。在荷兰总理访问美国后不久,荷兰政府决定不续签ASML的出口许可证。这也导致了ASML一直无法向中芯国际交付EUV光刻机。

ASML发言人表示,该公司遵守所有出口管制法律,并将其视为政府确保国家安全的“有效工具”。但该公司也表示,过度使用这些控制“可能会影响保持领先于不断增长的半导体需求所需的生产能力”。

“出口管制的广泛使用,可能会加剧芯片供应链问题,将会加剧对汽车行业等其他行业的溢出效应,这已经是世界各国政府和政策制定者的主要关注点”,AMSL发言人在一份声明中说到。

分析人士认为,美国官员对于SK海力士将EUV光刻机引入其中国工厂的努力的态度,与对于中国公司此前为了引入EUV光刻机所做的努力的态度没有任何不同。

VLSIresearch 的首席执行官丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 表示:“他们真的被夹在了中国和美国的矛盾之间,”他补充说,这些规则可能适用于中国的任何芯片制造业务,无论是外国的还是由中国大陆资本控制的。“任何在中国安装 EUV光刻机的企业都会为中国大陆提供制造能力。一旦它在那里,你不知道它之后会去哪里。他们总是可以利用它或做任何他们想做的事情。”这似乎也正是美国所担忧的。

所以,从目前来看,美国恐怕不会对SK海力士无锡厂引入EUV光刻机的计划“网开一面”。
那么这也不可避免的引申出另外一个问题,那就是,如果美国持续阻挠EUV光刻机对中国大陆的出口,不仅将锁死中国大陆半导体制造业在先进制程方向上的发展,使得中国大陆半导体制造技术与海外差距持续扩大。同时可能还将迫使SK海力士等注重先进制造工艺的外资芯片制造企业,在后续先进产能的投资上将不再考虑中国大陆。美国这一招真可谓是用心险恶。
如果要破局,要么通过国家层与美国或荷兰政府进行交涉解决,要么等待国产EUV光刻机的突破,要么找到能够绕过EUV光刻机继续推进先进制程的技术(比如铠侠携手NDP和佳能力推纳米压印技术),但不管哪种方式,无疑都将是极为艰难的。
编辑:芯智讯-浪客剑