标签: IMEC

imec推出首款开放式2nm工艺设计套件

imec推出首款开放式2nm工艺设计套件
在日前的2024年IEEE国际固态电路会议(ISSCC)上,比利时微电子研究中心(imec)推出开放式工艺设计套件(PDK),由EUROPRACTICE平台提供的共训练程序,通过imec开发的2nm虚拟数字设计,其中就包含了晶圆背面供电网络。

imec正切断与中国公司的合作!

3月6日消息,据外媒Politico报道,世界领先的微电子研究中心、总部位于比利时的imec(比利时微电子研究中心)正在切断与中国公司的合作。

进入埃米级制程工艺,为什么需要CFET?

据Semiwiki报道,在 IEDM 2023 上,imec的CMOS元件专案总监NaotoHoriguchi详细介绍了 CFET 和中段集成。这篇文章是基于他在 IEDM 上的演讲以及与文章作者Scotten Jones后续讨论所形成的。Naoto Horiguchi 是逻辑技术开发领域的领导者之一,习惯以易于理解的方式解释技术,反应灵敏且易于合作。

Imec携手三井化学,推动EUV碳纳米管光罩保护膜商用

Imec携手三井化学,推动EUV碳纳米管光罩保护膜商用
12月23日消息,据日本媒体报道,比利时微电子研究中心(imec)携手日本化工及极紫外光(EUV)光罩保护膜大厂三井化学共同宣布,为了推动针对EUV光刻的碳纳米管(CNT)光罩保护膜技术商业化,双方正式建立策略伙伴关系。

无需EUV也能实现尖端制程,定向自组装技术再度兴起!

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可以说在过去几十年,半导体产业在摩尔定律的推动下持续高速发展。但随着晶体管缩放尺寸逐渐逼近物理极限,半导体工艺制程的推进也越来越困难,“摩尔定律”已死的说法被越来越多的人认同。目前台积电、三星、英特尔等少数的尖端制程制造商,也只能依靠着越来越昂贵的EUV光刻机在艰难的推动半导体制程微缩,但是这依旧面临着非常多的工艺上的挑战以及成本难题。对此,科技界也希望寻找一些新的技术路径来改变目前的半导体制造困境,比如定向自组装(DSA)技术。

7大半导体巨头齐聚日本!美光宣布投资35亿美元建EUV工艺DRAM厂!IMEC宣布建研发中心!台积电、三星计划扩大在日投资!

7大半导体巨头齐聚日本!美光宣布投资35亿美元建EUV工艺DRAM厂!IMEC宣布建研发中心!台积电、三星计划扩大在日投资!
5月19日消息,日本首相岸田文雄昨日邀请了台积电、英特尔、应用材料、三星等全球七大半导体厂高层前往日本会谈。包括台积电董事长刘德音、英特尔CEO基辛格、三星电子半导体部门负责人庆桂显、美光CEO梅罗塔、IBM资深副总裁兼研究主管吉尔、应用材料半导体产品事业群总裁拉贾,以及比利时半导体研究开发机构IMEC执行副总裁 Max Mirgoli 都受到了邀请。

日本邀请台积电、英特尔、应用材料、三星等7大厂商高管谈合作

5月18日消息,综合日经新闻、读卖新闻及路透社报道,日本官方邀请台积电、英特尔、应用材料、三星等全球七大半导体厂高层前往日本,最快今天与日本首相岸田文雄会谈,希望能扩大在日本设厂与合作。业界解读称,在地缘政治紧张气氛延续下,这次是台、美、日、韩“Chip 4”联盟在日本汇集的高峰会。

IMEC发布芯片微缩路线图:2036年进入0.2nm时代

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由于数字应用和数据处理的迅速兴起,计算能力需求呈爆炸式增长。随着越来越多地使用人工智能来应对我们这个时代的主要挑战,例如气候变化或粮食短缺,从现在开始,计算需求预计每六个月就会翻一番。为了以可持续的方式处理呈指数级增长的数据量,我们需要改进的高性能半导体技术。为了实现这一目标,我们需要同时应对五个挑战。虽然世界上没有一家公司可以单独完成这一目标,但整个半导体生态系统的共同创新和协作将使摩尔定律得以延续:这是 imec 未来 15 至 20 年雄心勃勃的路线图的关键信息。