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韩国企业开发出基于石墨烯材料的EUV光罩保护膜

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12月15日消息,据韩国媒体BusinessKorea报导,韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ,有望显著提高ASML的极紫外光 (EUV) 系统生产芯片的良率。