业界 中微半导体推出8英寸CCP刻蚀设备,搅动芯片制造设备江湖 近日,中微半导体宣布其首台8英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备Primo AD-RIE 200™顺利付运客户生产线。2021年6月20日