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走向垂直:Gate All around、3D DRAM、3D NAND

10月16日消息,据semianalysis报道,大型私营半导体设备公司所剩无几,其中最突出的两家是日本国际电气(Kokusai Electric )和奥地利 EV Group。两家公司都是令人惊叹的公司,都利用了 Gate All around 逻辑和 3D NAND 的趋势。就 EV Group 而言,情况非常简单,用于异构集成和背面电力传输的晶圆键合机。

美国公司公布3D X-DRAM技术:230层堆栈,容量提升8倍!

美国公司宣布全球首款3D内存:64倍容量提升 追上SSD不是梦
5月5日消息,全球NAND Flash闪存早已经进入3D时代,这也使得其容量比相比2D时代得到了大幅的提升,但成本却并没有提高多少。相比之下,DRAM内存还停留在2D,需要大容量DRAM就需要支付更多的成本。近日,美国NEO半导体公司宣布推出了全球首款3D DRAM,旨在解决内存容量瓶颈,容量追上SSD不是问题。

3D DRAM正加速商业化

DRAM正加速走向3D
3月20日消息,据韩国媒体businesskorea报道,全球DRAM领导厂商三星电子和SK海力士正在加快推进3D DRAM的商业化。有业内人士认为,3D DRAM将改变存储器行业的游戏规则。不过,在DRAM行业排名第三的美光自2019年以来就已经开始了3D DRAM的研究,获得的专利数量是这两家韩国芯片制造商的两到三倍。

DRAM,加速走向3D

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随着10nm制程的临近,使其在晶圆上定义电路图案已经接近基本物理定律的极限。由于工艺完整性、成本、单元泄漏、电容、刷新管理和传感裕度等方面的挑战,DRAM存储单元的缩放正在放缓。