标签： 1nm光刻机

imec首席执行官兼总裁Luc Van den hove做了主题演讲，概述了该公司的研究，该公司和ASML密切合作，共同开发了下一代高分辨率EUV光刻技术，即High NA EUV。他强调说，通过将光刻技术投入实际使用，摩尔定律将不会终止，并且该工艺将继续改进到1 nm或更小。