9月1日,美国半导体设备厂商英特格今日发布声明,宣布在中国台湾智慧财产及商业法院对中国台湾晶圆及光罩传载解决方案商家登精密发起专利侵权诉讼。
6月11日消息,据中国台湾媒体报道,晶圆及光罩传载解决方案商——家登精密曾于 2021 年 11 月在台湾起诉美国同业者英特格(ENTG)的前开式晶圆盒 (FOUP) 及极紫外光 (EUV) 光罩盒产品侵犯专利,要求赔偿新台币 1 亿元。6月9日,台北智财法院针对此案判决家登精密败诉,指控英特格侵权案不成立。
12月9日消息,昨日英特格(Entegris, Inc.)宣布扩大投资其在台湾设立的全新具备最先进技术之厂区,未来三年,该投资将增至约5亿美元。该新厂区全面营运后,预计可创造年营收约5亿美元。
根据最新的数据显示,光刻机大厂ASML的极紫外光(EUV)光刻机在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货,预估2021年其EUV曝光机产能可达45~50台规模,这也意味着EUV光刻机出货进入高速成长阶段。