标签: 纳米压印微影

不用EUV光刻机也能造5nm芯片?铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术

不用EUV光刻机也能造5nm芯片?铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术
10月22日消息,在半导体制程技术进入5nm节点之后,EUV光刻机已经成为了不可或缺的关键设备。但是,因为EUV光刻机造价高昂,每台价格超过1亿美元,而且EUV光刻机仅荷兰ASML一家产生能够供应,且产能有限,这使得芯片的生产成本大幅升高。为解决这样的问题,日本存储大厂铠侠(Kioxia) 现在联合了合作伙伴开发了一种新的NIL制程技术,可以不使用EUV光刻机,就能使制程技术推进到5nm。