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ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70%,2025年问世

日前据韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。