密码保护：国产光刻机真相到底如何？
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标签： 国产光刻机
密码保护：国产“28nm光刻机”最新进展：浸液系统项目已成功交付0号样机、1号机，进入产品制造阶段
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解决“卡脖子”问题，国产光刻机项目用了他们的光源
从正面看去，一个比例被放大数十倍的立体玉龙跃然眼前，可当你伸手去触摸时，却只碰到了空气（见下图），2月20日，在位于新乡市红旗区新东产业集聚区的百合光电有限公司（以下简称百合光电），记者感受到了裸眼3D悬浮成像技术这一“黑科技”。
不用EUV也能实现5nm？中科院研发新型激光光刻技术
近日，据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》（Nano Letters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》（5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究论文，论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。
