3月19日,国产半导体设备大厂中微公司董事长、总经理尹志尧在2023年度业绩说明会上表示,中微公司绝大部分刻蚀设备的零部件已实现国产化或非美化,而且在很短的时间内,将全面实现自主可控的基础。
6月12日消息,日本半导体设备大厂东京电子(TEL)宣布,其等离子体蚀刻系统的开发和制造基地已经开发出一种创新的通孔蚀刻技术,可以用于堆叠超过400层的先进3D NAND闪存芯片。开发团队的新工艺首次将电介质蚀刻应用带入低温范围,从而打造了一个具有极高蚀刻率的系统。
2月12日消息,据外媒报道,中国大陆NAND Flash大厂长江存储近几个月大幅削减半导体生产设备订单,其中,对于国产半导体设备大厂北方华创的采购订单就遭暴砍了70%。这也反映了长江存储的扩产计划受到了阻碍。
近日,光驰半导体技术(上海)有限公司原子层镀膜与刻蚀设备项目开工奠基仪式举行。项目全部建成后将具有年产高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机的产能,具备较强国内先进水平光电子和半导体光学领域设备研发、测试、服务能力。
8月24日晚间,国产半导体设备厂商中微公司披露2021年上半年业绩报告,实现营业收入为13.39亿元,同比增长36.82%;归母净利润3.97亿元,同比增长233.17%;扣非净利润为6161.52万元,同比增长53.35%。基本每股收益0.74元。
6月9日午间,中微公司(中微半导体,AMEC)发布公告称,公司今早获悉,美国国防部将Advanced Micro-FabricationEquipmentInc.(AMEC)(中微公司)从中国涉军企业名单中删除。中微公司被美国国防部从中国涉军企业名单中移除后,美国人士将不再受限对中微公司所发行的有价证券及其相关的衍生品进行交易。
近期,杨澜访谈录节目《逐风者》专访了“硅谷传奇”——中微半导体董事长兼总经理尹志尧。