ASML推出第一代HMI多光束检测机:速度提升600%,适用于5nm及更先进工艺

面向3nm及以下工艺,ASML新一代EUV光刻机曝光-芯智讯

在现有的半导体工艺体系下,7nm以下的制程必须要用到EUV光刻机,而作为全球EUV光刻机的唯一供应商,荷兰的ASML公司的EUV光刻机的一直都是供不应求。近日,ASML公司又进入到半导体检测设备领域,推出了第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000,适用于5nm及更先进工艺,使得速度提升600%。

随着制程工艺不断提升,晶圆的制造也越来越复杂,这也会导致晶圆中的错误更多,HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技术的检测系统,内部也有复杂的光电子系统,能够产生、控制多个电子束,然后根据反射回来的电子束成像来分析晶圆质量,并有高速运行的平台以控制测试的晶圆数量,还要有计算系统处理电子束的数据。

简单来说,ASML研发的这个HMI eScan1000机器就是一台验证先进工艺生产出来的晶圆质量的系统,工艺越先进,检测系统就越重要,它的检测精度、吞吐量决定了生产的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之处在于能够同时产生、控制九道电子束,所以产能提升了600%,可以大大减少晶圆质量分析所用的时间。

目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先进工艺的晶圆测试,已经交付给客户进行测试验证,未来ASML还会推出光束更多的测试设备以满足客户对先进工艺的要求。

编辑:芯智讯-林子

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